等离子电浆抛光设备是一种基于等离子技术的新型抛光装置。等离子被称为物质的第四态，通过电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，形成包含原子、分子、离子和电子的等离子体。在高温高压的条件下，电子脱离原子核，形成带正电的离子，当这些离子达到一定数量时，就会出现等离子态。等离子体具有极高的能量，当其与待抛光物体接触时，能够迅速达到优秀的表面光亮效果。

本设备采用的液态电浆抛光技术与传统方法截然不同，凭借电化学和化学反应原理研发而成。该技术通过分析电解质成分、水溶液浓度、温度、电压及电流密度等因素，对工件的表面特性如粗糙度、光泽度和反射率进行影响，从而形成了一种新型的有效抛光方法。

等离子电浆抛光机（EDTM）的主要特点包括：

(1) 根据工件尺寸的不同，抛光时间可在几十秒至2分钟内达成近镜面的抛光效果，便于后续处理；

(2) 有效去除冲压件或其他制造件的边角毛刺；

(3) 在抛光过程中，工件表面会产生一层钝化膜，保持耐久光亮，增强抗腐蚀性能；

(4) 抛光均匀性优越，确保工件表面及所有死角部位都可达到一致的镜面效果；

(5) 抛光过程由电参数控制，全程采用进口PLC自动化控制，操作简便，维护方便；

(6) 生产效率高，生产成本低；

(7) 抛光过程中不产生化学污染，使用低浓度药剂（95%~97%的水加3%~5%的药品，PH值约6.5~7）；

(8) 清洁能力强，EDTM系统不仅适合快速抛光，同时也可以用于各种形状合金表面的去污、除脂、去氧化层和清洁残留杂质，为工件表面镀膜前的处理提供支持。

通过以上特点，可以看出等离子电浆抛光设备是一种高效、环保且具有优良性能的新型抛光解决方案，广泛应用于各类工业领域，满足不同客户的需求。