管式炉

在现代材料研究和工业应用中，真空气氛管式炉发挥着至关重要的作用。**RCVD系列真空气氛管式炉**为用户提供了高、中、低温的CVD工艺解决方案，应用领域众多，例如：**碳纳米管研制、试验用碳纤维碳化、晶体硅板镀膜**以及**纳米氧化锌结构的可控生长**等。此外，该设备还适用于金属材料的扩散焊接以及在真空或气氛保护下进行的热处理，展现出广泛的灵活性。

RCVD系列真空气氛管式炉具有若干显著的**主要特点**。首先，设备采用**精炼石英管或高纯度陶瓷管**作为炉膛，确保良好的洁净度和真空度。密封方式可拆卸，方便维护和清洁。同时，整机使用的都是**轻质耐火保温材料**，使得设备质量轻便且低能耗。此外，加热元件选用的是**硅钼棒、硅碳棒或进口电阻丝**，而温度控制系统则采用**原装进口智能多段程序温度控制仪**，确保了稳定性与均匀性。

接下来，我们来看一下RCVD系列的**技术指标**。设备型号包括：**RGDL-07/75/3、RGDL-18/110/3、RGDL(D)-06/60/3**和**RGDL(G)-09/50/1**。这些设备的最高温度可达到**1050℃**（RGDL系列）或**1650℃**（RGDL(G)-09/50/1），使用温度范围广泛，从**常温到1000℃**或**1600℃**不等，并且控温精度高达±1℃。

在温区设置方面，不同型号的温区个数从**1个到3个**不等，适应不同实验需求。炉管尺寸也各不相同，例如：**Φ70×2200mm**、**Φ180×2100mm**、**Φ60×1400mm**和**Φ90×1450mm**。发热元件均为**进口电阻丝**，部分型号使用**U型硅钼棒**，保证提供强劲而稳定的加热效果。

此外，RCVD系列真空气氛管式炉还提供丰富的**选件功能**，比如真空系统可以选择**机械泵或是机械泵加扩散泵机组**，以及**分子泵**。气氛保护系统可以配备**浮子流量计或质量流量计**，而记录打印系统则可以根据需求选配**无纸记录仪**。

综上所述，RCVD系列真空气氛管式炉以其高效、稳定、易维护的特点，以及广泛的应用领域，成为了材料研究及工业领域中不可缺少的设备，适合于大量科研或生产任务。选择RCVD系列设备，助力您的科研与实践。